Electrochemistry誌に掲載された、中村天彰君（R6年度博士後期課程修了）の論文”Kinetic Analysis of Oxygen Reduction Reaction for Electrodeposition of ZnO Thin Films” by Tensho Nakamura, Kota Ikeda, Haruto Morinaga and Tsukasa YoshidaがR6年度電気化学会論文賞を受賞し、2025年3月18-20日東京農工大学小金井キャンパスで開催された、電気化学会第92回大会において表彰されました！
同論文は、中村君の博士論文の中核を成す研究成果で、亜鉛イオン共存下において電気化学的な酸素還元反応が水酸化物イオンを生成する4電子反応から過酸化水素を生成する2電子反応へと変化すること、また多段階な酸素還元反応について速度定数等を明らかにしたことで、主要な反応経路が変化していることを明らかにしました。金属酸化物薄膜電析の学術的基礎を与える研究として高く評価され受賞に至ったものです。
当該論文は以下のリンクからフリーアクセス出来ます。
https://www.jstage.jst.go.jp/article/electrochemistry/92/10/92_24-00089/_article
